微导纳米ALD技术突破 半导体设备进入放量拐点
近期机构研报指出,公司ALD设备已导入多家国产逻辑与存储大厂前道产线,iTomic MeT系列获批量订单,硬掩模PECVD实现量产,LPCVD也获重复订单,技术延伸路径清晰。研报认为,三维芯片结构升级和国内晶圆厂扩产正系统性提升ALD工艺渗透率,公司从单一ALD向ALD+CVD综合平台演进,客户单线价值量持续提升。 研报指出,可转债募投项目全部聚焦半导体,达产后将新增50台/套薄膜沉积设备产能。随着订单加速转化及规模效应显现,2026年起利润增速有望显著改善,成长确定性增强。 中财网
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